机译:黑色硅法-在轮廓控制下确定深硅沟槽刻蚀中基于氟的反应离子刻蚀参数设置的通用方法
机译:黑色硅法-在轮廓控制下确定深硅沟槽刻蚀中基于氟的反应离子刻蚀参数设置的通用方法
机译:硅锗作为硅深反应离子刻蚀的新型掩模
机译:使用铝作为蚀刻掩模的DRIE方法在硅结构中形成深沟槽
机译:使用灰度光刻和深反应离子刻蚀开发深硅相菲涅耳透镜
机译:结合隔离技术和深反应离子刻蚀形成硅纳米结构
机译:黑硅方法II:掩模材料和负载对深硅沟槽的反应离子蚀刻的影响
机译:具有极低掩模材料蚀刻速率的硅的反应溅射蚀刻